Deposition of silicon carbide thin films with RF and DC magnetron sputtering

Abstract

Silicon carbide thin films have been deposited by RF magnetron sputtering method in order to observe the effect of the argon flow rate on the properties of the obtained layers. We used à polycrystalline 6H-SiC (99.99 purity)... [ view full abstract ]

Authors

  1. Mohand Arezki OUADFEL (Centre de Recherche en Technologie des Semi-conducteurs pour l’Energétique (CRTSE), Division Couches Mines Surfaces et Interfaces (CMSI).)
  2. Aissa Keffous (Centre de Recherche en Technologie des Semi-conducteurs pour l’Energétique (CRTSE), Division Couches Mines Surfaces et Interfaces (CMSI).)
  3. Mohamed Kechouane (Faculté de Physique, Université Houari Boumediene (USTHB), Bab ezzoaur, Alger.)
  4. Noureddine Gabouze (Centre de Recherche en Technologie des Semi-conducteurs pour l’Energétique (CRTSE), Division Couches Mines Surfaces et Interfaces (CMSI).)
  5. Hamid Menari (Centre de Recherche en Technologie des Semi-conducteurs pour l’Energétique (CRTSE), Division Couches Mines Surfaces et Interfaces (CMSI).)
  6. Maha Ayat (Centre de Recherche en Technologie des Semi-conducteurs pour l’Energétique (CRTSE), Division Couches Mines Surfaces et Interfaces (CMSI).)

Topic Areas

Optical properties of nanostructures , Nanofabrication, nanoprocesing & nanomanufacturing

Session

PS2 » Poster Session (13:30 - Thursday, 10th November, Gallery)

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